高精細化する画像を認識する観察光学系や、LED・ランプ光源を最大限に有効活用する照明光学系、
偏光や干渉を考慮したレーザー光学系において多数の実績と知見を有しています。
また、投影露光光学系やマスクレス露光光学系など回折限界が要求されるリソグラフィ光学系においても
高い水準にてご要望にお応えする事が可能です。
水銀ランプと肩を並べる出力を達成してきた近年のUV-LED光源は、省電力・環境保護の面においても優れた光源です。様々なチップ・パッケージのLEDを、要求されるスペックに最適化し、光学設計、冷却設計、パワーサプライまで含め光源トータルとしてご提供致します。
露光・加工・リペア・アニールなど、多種多様なニーズに対応してきた経験から、レーザー光源特性をすべて勘案し、高効率なレーザー光学系の設計開発からユニット提供まで幅広く対応致します。
高速に大エリアを撮像し、計測や測長に活かすだけでなく、映像記録として画像を保存できる為、様々な産業装置において当該光学系の採用の幅が広がっています。
多様なスペックに幅広く対応し、仕様立案から完成まで対応致します。
半導体、電子回路基板、液晶と各業界においてリソグラフィ工程はもっとも重要な生産工程です。生産製品の精細度・高密度特性・機能特性に影響を与える重要な工程である為、製造ラインの能力を決定します。大面積・広焦点深度・高解像性と様々な性能面において、要求される最適解をご提供致します。
近年、マスクを用いずに露光を行えるマスクレス露光装置は各業界の産業装置において主力生産機としての地位を確立してまいりました。当社は豊富な経験と実績を有しており、マスクレス方式特有の様々な問題点や技術課題をクリアした高精度ユニットを提供致します。
計測・測長・画像認識などにおいて、デフォーカス時に倍率変化がないテレセントリック光学系は非常に優位性があります。測定回数の低減、効率化に貢献する広視野対応、ならびに可視光から赤外領域までの幅広い波長補正を実現するユニットを提供致します。
いかに優秀な光学設計を達成していても、製造時において性能劣化が発生してしまっては良い光学系にはなり得ません。その為には、レンズ製造時において精密にレンズ面の計測を行う必要があり、それに不可欠なものは高精度TSレンズです。当社は市販されている干渉計標準のTSレンズを上回る高精度測定が可能な、高精度TSレンズを仕様立案から完成品提供に至るまで幅広く対応致します。
露光装置は制御の高度化が進んでいますが、いまだにオペレータに依存する部分が残っており、完全自動化の妨げとなっています。最新のAI機能を活用し、様々な人的要素に頼る部分を削減し、装置自身の不具合起因による生産品の不良発生を検知する機能など、様々なニーズに応じた露光関連ソフトウェア、支援機能を設計開発からサポートまで対応致します。
